产品规格，纯度可按客户要求定制

氧化物靶材Oxide Sputtering Targets：  

氧化铝Al2O3;氧化铋Bi2O3;氧化镉CdO;氧化铬Cr2O3;氧化铜CuO;三氧化二铁Fe2O3;四氧化三铁Fe3O4;氧化镓Ga2O3;二氧化锗GeO2;氧化铪HfO2;氧化铟In2O3;氧化锂Li2O;氧化镁MgO;二氧化锰MnO2;四氧化三锰Mn3O4；碲化氧化钼MoO3;氧化铌Nb2O5；碲化NbOx;氧化镍NiO;氧化铅PbO;氧化锑Sb2O3;一氧化硅SiO;二氧化硅SiO2;二氧化锡SnO2;一氧化锡SnO;氧化钽Ta2O5；碲化Ta2Ox;二氧化钛TiO2;TiOx;一氧化钛TiO;氧化锆ZrO2;氧化钒V2O5;氧化钨WO3;氧化锌ZnO;氧化锆ZrO2; 稀土氧化物（氧化镧La2O3;氧化铈CeO2;氧化镨Pr6O11;氧化钕Nd2O3;氧化钐Sm2O3;氧化钆Gd2O3;氧化铽Tb4O11;氧化镝Dy2O3;氧化钬Ho2O3;氧化铒Er2O3;氧化铥Tm2O3;氧化镱Yb2O3;氧化镥Lu2O3;氧化钇Y2O3;氧化钪Sc2O3;) 

氮化物靶材Nitride Sputtering Targets：

氮化铝AlN;氮化铝钪AlScN, AlxSc(1-x)N;氮化钪ScN; 碲化氮化钆GdN； 氮化硼BN;氮化铬CrN;氮化铪HfN;氮化铌NbN;氮化硅Si3N4;氮化钽TaN;氮碳化钛TiCN;氮化钛TiN;氮化钒VN;氮化锆ZrN;氮化铝钛AlTiN