| 详细参数 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型号 | CSF-25-160-2A-G |
| 类型 | 谐波减速器 | 载荷状态 | 均匀载荷 |
| 传动比级数 | 单级 | 轴的相对位置 | 立式加速器 |
| 传动布置形式 | 摆线式 | 加工定制 | 是 |
| 样品或现货 | 现货 | 齿面硬度 | 软齿面 |
| 布局形式 | 三环式 | 用途 | 减速机 |
| 输入转速 | 3000rpm | 额定功率 | 111kw |
| 输出转速范围 | 47.6rpm | 许用扭矩 | 22N.m |
| 使用范围 | 矿产 | 减速比 | 43 |
| 产地 | 日本 | ||
曝光后的硅片从曝光系统又回到硅片轨道系统，需要进行短时间的曝光后烘培。其目的是促进光刻胶的化学反应，哈默纳科精密硅片谐波CSF-25-160-2A-GR或者提高光刻胶的粘附性并减少驻波。在光刻胶的产品说明书中，生产商会提供后烘的时间和温度。进行后烘时，硅片放在自动轨道系统的一个热板上，处理的温度和时间需要根哈默纳科精密硅片谐波CSF-25-160-2A-GR据光刻胶的类型确定。典型后烘的温度90~130℃，时间1~2分钟。
用化学显影液溶解由曝光造成的光哈默纳科精密硅片谐波CSF-25-160-2A-GR刻胶可溶解区域就是光刻胶显影，目的是把掩模版图形准确复制到光刻胶中。显影的要求重点是产生的关键尺寸达到规格要求。
