| 详细参数 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型号 | CSF-25-160 |
| 类型 | 圆柱齿轮减速器 | 载荷状态 | 中等冲击载荷 |
| 传动比级数 | 单级 | 轴的相对位置 | 立式加速器 |
| 传动布置形式 | 摆线式 | 加工定制 | 是 |
| 样品或现货 | 现货 | 齿面硬度 | 软齿面 |
| 布局形式 | 三环式 | 用途 | 减速机 |
| 输入转速 | 3000rpm | 额定功率 | 111kw |
| 输出转速范围 | 47.6rpm | 许用扭矩 | 22N.m |
| 使用范围 | 军工 | 减速比 | 4554 |
| 产地 | 日本 | ||
曝光过程包括：聚焦、对准、曝光、步进和重复以上过程。
光学曝光技术经历了不同的发展阶段。harmonic光刻机系统谐波CSF-25-160-2A-GR按照掩模版与硅片的位置关系区分，从最初的接触式曝光，发展到接近式曝光，直到现在的投影式曝光。曝光光源主要使用紫外光、深紫外光、harmonic光刻机系统谐波CSF-25-160-2A-GR极紫外光，现今最常用的是：汞灯和准分子聚光光源。
光刻设备的发展和使用经历了五个不同阶段，分别是：接触式光刻机、接近式光刻机、扫描投影光刻机、分步重复光刻机、步进扫描光刻机。
曝光与对准过程主要由光刻机完成。harmonic光刻机系统谐波CSF-25-160-2A-GR光刻机造价高昂，是非常复杂的系统，涉及的技术也非常多。光刻机是芯片生产的关键设备，也是电子制造的核心技术设备
