| 详细参数 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型号 | SHD-14-50-2 |
| 类型 | 谐波减速器 | 载荷状态 | 强冲击载荷 |
| 传动比级数 | 双级 | 轴的相对位置 | 立式加速器 |
| 传动布置形式 | 摆线式 | 加工定制 | 是 |
| 样品或现货 | 现货 | 齿面硬度 | 软齿面 |
| 布局形式 | 摆线式 | 用途 | 变速机 |
| 输入转速 | 1450rpm | 额定功率 | 360kw |
| 输出转速范围 | 50rpm | 许用扭矩 | 691N.m |
| 使用范围 | 矿产 | 减速比 | 60 |
| 产地 | 日本 | ||
离子注入 离子注入是亚微米工艺中最常见的掺杂方法。将要掺入的杂质harmonic硅片清洗谐波SHD-14-50-2SH ，如砷 (As)、磷（P）、硼（B）注入离子注入机，经过电离，再由高电压或磁场控制并加速，harmonic硅片清洗谐波SHD-14-50-2SH高能杂质离子穿透涂胶硅片的表面，最后进行去胶和清洗硅片完成离子注入。
（5）薄膜生长 薄膜生长工艺用来加工出半导体中的介质层、金属层。薄膜工艺包括化学气相淀积（CVD）和金属溅射（物理气相淀积，PVD）。薄膜产生后需要使用快速退火装置（RPT）修复离子注入引入的衬harmonic硅片清洗谐波SHD-14-50-2SH损伤，以及完成金属的合金化。最后使用湿法清洗设备进行硅片清洗。
