| 详细参数 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型号 | SHA32Y120CG-B12B2, |
| 类型 | 谐波减速器 | 载荷状态 | 均匀载荷 |
| 传动比级数 | 单级 | 轴的相对位置 | 立式加速器 |
| 传动布置形式 | 分流式 | 加工定制 | 是 |
| 样品或现货 | 现货 | 齿面硬度 | 软齿面 |
| 布局形式 | 摆线式 | 用途 | 减速机 |
| 输入转速 | 1450rpm | 额定功率 | 15kw |
| 输出转速范围 | 111rpm | 许用扭矩 | 1782N.m |
| 使用范围 | 工业 | 减速比 | 88 |
| 产地 | 日本 | ||
CMP通常称为化学机械抛光（chemical mechanical planarization，CMP）或抛光哈默纳科机械磨头谐波SHA32Y120CG-B12B2。化学机械平坦化是实现多层金属技术的主要平坦化技术，它通过硅片和一个抛光头之间的相对运动来平坦化硅片表面，在硅片表面和抛光头之间有磨料，并且施加一定压力。CMP设备工作原理，为平坦化加工原理图，哈默纳科机械磨头谐波SHA32Y120CG-B12B2）为带有多个磨头的CMP设备示意图。在抛光时一个磨头上装有一个硅片，在传送和抛光过程中，磨头依靠真空来吸附硅片。抛哈默纳科机械磨头谐波SHA32Y120CG-B12B2光时磨料由磨料喷嘴喷涂到抛光垫上，磨头和转盘的旋转运动实现了硅片的抛光。磨料与硅片的化学反应促进了抛光效果。
