详细参数 | |||
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品牌 | 哈默纳科 | 型号 | SHF-40-80-2UH |
类型 | 谐波减速器 | 载荷状态 | 强冲击载荷 |
传动比级数 | 双级 | 轴的相对位置 | 卧式减速器 |
传动布置形式 | 摆线式 | 加工定制 | 是 |
样品或现货 | 样品 | 齿面硬度 | 硬齿面 |
布局形式 | 三环式 | 用途 | 减速机 |
输入转速 | 1450rpm | 额定功率 | 15kw |
输出转速范围 | 111rpm | 许用扭矩 | 1782N.m |
使用范围 | 化工 | 减速比 | 543 |
产地 | 日本 |
,只是离心的彻体力效果,使光阻稳定地、且是呈同心圆状地向外涂布。日本HD深刻模造术谐波SHF-40-80-2UH 根据实际使用显示,GYRSET?只需一般涂布机的55%光阻用量。另外,其也可应用于厚光阻之涂布(厚度自数微米至数百微米不等)。受涂基板也可由晶圆改为任意的工作外型,而不会造成边缘一大部日本HD深刻模造术谐波SHF-40-80-2UH 份面积厚度不均的花花外貌。
[注]厚光阻是新近发展出来,供微机电研究使用的材料,如IBM的SU-8系列光阻,厚度由数微米至100微米不等,以GYRSET?涂布后,经过严格的烘干程序,再以紫外线或准分子雷射(excimerlaser)进行曝光显影日本HD深刻模造术谐波SHF-40-80-2UH 后,所得到较深遂的凹状图案,可供进一步精密电铸(electro-bing)的金属微结构成长填塞。这种加工程序又称为「仿LIGA」制程(poormansLIGA),即「异步X光之深刻模造术」。